1)第1021章技术英雄_重生之军工霸主
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  说堵就堵,绝不含糊,谭二少爷可是个地地道道的行动派。

  在与各大部委热热闹闹的签字仪式进行完毕后,他又随便与闻名前来与他套近乎的,华夏国内的所谓“c四大金刚”简单应酬了一番,便匆匆登上了飞往米国的班机。

  当然,在登机之前,已经有一份电报被加急发出,并让罗琳女士立刻忙碌了起来。

  在谭振华的心中,手上这件事,可比和“四大金刚”拉拉关系顺便忽悠他们加入“idoor”行业联盟重要多了,那事回头让虞有成过来处理就好。

  反正这什么“四大金刚”原本发家所依赖的“e”联盟在本时空根本还没成气候就烟消云散了,他也不怕他们反了天去。

  有同学肯定就要问了,这位林本兼到底是何方神圣,居然让二少爷如此心急火燎地要上杆子地想办法将其收入囊中呢

  那当然是因为,这个人关系到整个半导体行业的未来。

  林本兼,男,华裔,1942年出生于安南,现年44岁,在湾岛就读高中,1970年获得米国俄亥俄州立大学电机工程博士,随即进入ib工作。

  如果说张忠谋是改变了半导体行业整体竞争格局的领导者,那么,林本兼,就是半导体工业界的技术英雄。

  要想清楚地了解他的重要性,还得从半导体制造流程中,最重要,也是技术门槛最高的那一样设备光刻机说起。

  时光回溯到1959年,那时,伟大的仙童公司已经成立了一年有余,公司的工程师赫尔尼先生在几经周折之后,终于发明了制造扩散型晶体管的“平面处理工艺”,应用这种工艺可以使晶体管制造就像印刷书籍一样高效。

  “平面处理工艺”自诞生之日起,就成为制造集成电路的标准工艺并一直沿用至今,而这一工艺中最关键的一道流程,是把带有电路图的透光片正确投射到硅片上。

  正确执行这道工艺流程的关键设备,就是光刻机。

  起初,所有的光刻机都采用的是所谓“干式”,既以空气为介质的微影技术,这一技术一直沿用到二十世纪90年代,当然,随着技术的不断进步,镜头分辨率越来越高,所用光源的波长越来越短,能加工的晶圆尺寸也越来越大,工作过程也越来越自动化就像摩尔定律遵循的那样,制造芯片对应的制程工艺也越来越细,从微米级一直下探到了纳米级。

  但忽然有一天,就碰到了无法突破的壁垒,在65纳米制程上卡壳了。

  因为,在很长一段时间内,人类无法突破光刻光源的技术瓶颈,只能使用波长为193n的光源,却对升级成157n波长光源所遇到的一系列问题束手无策。

  尽管当时全世界动员了无数的科学家,众多企业和财团为此投入了海

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